SUCCÈS RESPONSABLE DE TÉCIMAN POLSKA AU AUTOMOTIVE CEE DAY 2018

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Pour faire suite à une actualité précédente, Téciman Polska a participé à la Journée Automobile CEE. Il s'agit de l'un des événements B2B les plus importants d'Europe centrale et orientale. Et il a été organisé par l'association polonaise AutomotiveSuppliers.pl, qui regroupe les principales entreprises du secteur automobile.

Au total, 229 entreprises de pays tels que l'Allemagne, le Royaume-Uni, la République tchèque, la Hongrie, la Lituanie, la Slovaquie, la Slovénie et, bien sûr, la Pologne, ont participé à l'édition 2018 de l'Automotive CEE Day. Parmi ces entreprises participantes, nous pouvons souligner VW Pologne, Fiat Chrysler Pologne, Sitech (Groupe VW), Magna, GKN Driveline, IAC Group, BorgWarner, Dana, etc.

Téciman Polska a été représenté par Paulina Kleniewska (Consultante en ressources humaines) et Sergio Abad (Chef de la délégation Téciman en Europe centrale et orientale). Tous deux conviennent que cette édition a été un grand succès pour Téciman Polska puisqu'ils ont eu des rencontres avec des représentants de nombreuses entreprises de haut niveau, telles que :

  • FCA (Fiat Chrysler Automobile) – Fabricant OEM
  • Sitech (Groupe VW) – Fabricant de sièges appartenant au groupe VW
  • Magna – Fabricant d’assemblages métalliques (systèmes de carrosserie et de châssis)
  • Groupe IAC – Fabricant d’ensembles de tableaux de bord, de consoles centrales, etc.
  • Transmission GKN – Fabricant de composants de direction avec plus de 1 000 employés en Pologne
  • Boryszew Plastiques automobiles – Filiale du groupe allemand Boryszew, dédiée à la fabrication de composants plastiques pour l'industrie automobile.
  • Bozamet – Entreprise dédiée à la fabrication d’assemblages métalliques pour les secteurs automobile, ferroviaire et de la construction.

Les représentants de ces entreprises ont été très impressionnés par les différents services proposés par Téciman Polska et Téciman International et nous prévoyons de commencer bientôt à collaborer avec eux.

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